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什么是镀膜?

什么是镀膜?

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第一节镀膜玻璃

一、镀膜工艺

镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法,镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。我公司采用的是阴极真空磁控溅射法,通过磁控溅射,在优质浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。

通过镀膜可以改变基片的某些属性,如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。

1.镀膜原理

阴极真空磁控溅射的特点:膜层厚度均匀、镀膜速度快、基360问答板温度低。

溅射镀膜起道利用2个原理:辉光放电、连续撞击。溅射过程是建立在气体放电基础上的,放电从低压下开始的,气体离子与靶材相互作用,离子不断的撞击靶表面,靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片(玻璃)上沉积下来,凝结成一层薄膜。

当气体通入真空室后,气体在低气压高电压的情况下民到翻动与士迅速被电离,Ar原子电离为Ar+和e-,带正电的Ar+离子在电场的作用下向阴极运动,最终撞击靶材,把能量传递给靶材。当较多的Ar天+离子撞击靶材,靶材表面原子所受到的撞击力大于靶材内部应认被然乙片掉操力时,靶表面原子就从靶表面析袁育出。带负电的电子e-在电场作用下向带正电的阳极运动,而阴极上是装有磁体的,真空室内同时具有磁场,电子在电磁场的作用下作圆周运动,而真空室内不断的在补充气体洋女改走飞,电子会撞击补充的气体分子,加速气体分子的电犯加种离,电子撞击气体分子后能案红圆犯致陈论望差上模量减小,运动半径减小,多次撞击后能量消失,故电子的运动轨迹是螺田家型型旋形。2.二、4.